西 義雄 | 東京芝浦電機、半導体技術部

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• 西 義雄

  東京芝浦電機、半導体技術部

• 阿部 敏雄

  東芝 半導体技術部

• 西 義雄

  東芝半導体技術部

• 阿部 敏雄

  東芝半導体技術部

• 加藤 健敏

  東芝半導体技術部

• 西 義雄

  東芝 半導体技術部

• 加藤 健敏

  東芝 半導体技術部

• 加藤 栄一

  早稲田大学理工学部

• 佐藤 幹郎

  東芝半導体技術部

• 佐藤 幹郎

  東京芝浦電気k.k. 半導体技術部

• 小中 雅水

  東芝 半導体技術部

• 阿部 敏雄

  "東京芝浦電機、半導体技術部

• 小中 雅水

  東芝半導体技術部

• 加藤 宏

  東芝 半導体技術部

• 福田 重美

  新日本製鉄(株)

• 福田 重美

  早稲田大学理工学部

• 西 義雄

  東京芝浦電気

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著作論文

• GaAsの赤外吸収 : 応用半導体
• 誘電体分離ウェファの赤外線反射率 : 半導体(光学特性)
• 塩化水素-水素系に依る気相腐食法 : 結晶生長
• 酸化膜を利用したSiliconの気相成長 : 結晶生長
• MOS構造による不純物濃度分布 : 半導体(結晶成長, Device (酸化膜))
• SiH_4の熱分解によるSiの気相成長 : 半導体 : 気相成長
• Impurty Distrubution in Si Epitaxial Film(II) : 半導体 : 気相成長
• 47 溶融鉄合金の水素溶解度および黒鉛の水素吸着 : 純鉄, 鉄-炭素, 鉄-ケイ素, 鉄-炭素-ケイ素系合金, 黒鉛(製鋼基礎, 日本鉄鋼協会第 70 回(秋季)講演大会講演論文集 (I))

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