Hyeon Kim | Yeungnam University
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概要
関連著者
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山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
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Hyeon Kim
Yeungnam University
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KIM Ki
東北大・工
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池田 慎治
信州大
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池田 愼治
信州大学 工学部
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池田 慎治
東北大
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山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
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島田 寛
東北大学大学院工学研究科
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荒井 賢一
東北大学電気通信研究所
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島田 寛
東北大科研
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山口 正洋
東北大・工
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山口 正洋
東北大学
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大沼 繁弘
電気磁気材料研究所
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荒井 賢一
東北大学
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島田 寛
東北大
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池田 愼治
東北大学大学院工学研究科
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島田 寛
東北大学
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KIM Ki
東北大学
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名倉 秀明
電気磁気材料研究所
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大沼 繁弘
財団法人電気磁気材料研究所
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大沼 繁弘
財団法人 電気磁気材料研究所
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馬渡 宏
東北大学電気通信研究所
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山口 正洋
東北大学電気通信研究所
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島田 寛
東北大学工学研究科電気通信工学専攻
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島田 寛
東北大・多元研
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島田 寛
東北大学多元物質科学研究所
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塩澤 誠一
東北大学大学院工学研究科
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Yan Zhuang
Delft University of Technology
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Marina Vroubel
Delft University of Technology
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Behzad Rejaei
Delft University of Technology
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KIM Ki
Yeungnam University
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ZHUANG Yan
Delft University of Technology
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VROUBEL Marina
Delft University of Technology
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REJAEI Behzad
Delft University of Technology
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池田 愼治
東北大・工
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SEOK Bae
東北大学
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池田 愼治
東北大学電気通信研究所
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Hyeon Kim
東北大学電気通信研究所
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馬渡 宏
東北大学通研
著作論文
- 負の透磁率による高周波導体抵抗の低減に関する研究
- 複合マイクロパターン化磁性膜
- マイクロパターン化されたCoZrNb磁性膜の磁区観察
- マイクロパターン化磁性膜の実効透磁率のシミュレーション(磁気応用)
- 磁性膜のスリット加工による形状異方性制御における加工形状と磁気特性の関係のシミュレーション