鈴村 直仁 | (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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概要
関連著者
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鈴村 直仁
(株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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小守 純子
(株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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山本 茂久
(株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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小笠原 誠
(株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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真壁 一也
(株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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村上 英一
(株)ルネサステクノロジ解析技術開発部
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児玉 大介
(株)ルネサステクノロジプロセス開発部
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宮崎 博史
(株)ルネサステクノロジプロセス開発部
著作論文
- ビア付Cu配線のTDDB信頼性予測(配線・実装技術と関連材料技術)
- Cuイオンドリフトに起因したCu配線間TDDB劣化モデル(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- Cuイオンドリフトに起因したCu配線間TDDB劣化モデル(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- Cuイオンドリフトに起因したCu配線間TDDB劣化モデル(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)