真壁 一也 | (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

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概要

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• 同名の論文著者
• (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部の論文著者

関連著者

• 小守 純子

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

• 山本 茂久

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

• 鈴村 直仁

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

• 小笠原 誠

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

• 真壁 一也

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

• 村上 英一

  (株)ルネサステクノロジ解析技術開発部

著作論文

• Cuイオンドリフトに起因したCu配線間TDDB劣化モデル(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• Cuイオンドリフトに起因したCu配線間TDDB劣化モデル(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• Cuイオンドリフトに起因したCu配線間TDDB劣化モデル(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)

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