臼田 宏治 | (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

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概要

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• (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリーの論文著者

関連著者

• 臼田 宏治

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 鳥海 明

  東京大学大学院

• 小林 圭

  京都大学国際融合創造センター

• 山田 啓文

  Dep. Of Electronic Sci. And Engineering Kyoto Univ. Katsura Nishikyo Kyoto 615-8510 Japaninnovative

• 木村 健次郎

  京都大学大学院工学研究科

• 山田 啓文

  京都大学大学院工学研究科

• 山田 啓文

  京都大学工学研究科電子工学専攻

• 伊藤 仁

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 鳥海 明

  東京大学

• 鳥海 明

  東京大学大学院工学系研究科

• 山田 啓文

  Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University

• 伊藤 仁

  (株)東芝ulsi研究所

• 長嶺 真

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

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著作論文

• 走査型容量顕微鏡によるMOSFET動作時の不純物分布計測
• AFMによるラジカル酸化膜/Si界面平坦化効果の検討

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