永嶋 賢史 | (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第三部

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概要

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関連著者

• 赤堀 浩史

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• 永嶋 賢史

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• 川田 宣仁

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• 市川 徹

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• 永嶋 賢史

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• 赤堀 浩史

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センターインテグレーション・計測システム技術開発部

著作論文

• シリコン酸化膜中に取り込まれたドーパントの影響(プロセス科学と新プロセス技術)
• ゲート絶縁膜におけるRIEダメージからの回復(プロセス科学と新プロセス技術)

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