永嶋 賢史 | (株)東芝セミコンダクター社先端メモリ開発センター先端メモリインテグレーション開発部

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概要

• 同名の論文著者
• (株)東芝セミコンダクター社先端メモリ開発センター先端メモリインテグレーション開発部の論文著者

関連著者

• 赤堀 浩史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第三部

• 永嶋 賢史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第三部

• 川田 宣仁

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センターインテグレーション・計測システム技術開発部

• 市川 徹

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センターインテグレーション・計測システム技術開発部

• 永嶋 賢史

  (株)東芝セミコンダクター社先端メモリ開発センター先端メモリインテグレーション開発部

• 赤堀 浩史

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センターインテグレーション・計測システム技術開発部

著作論文

• ゲート絶縁膜におけるRIEダメージからの回復(プロセス科学と新プロセス技術)

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