堀内 健史 | (独)産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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堀内 健史
(独)産業技術総合研究所
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堀内 健史
独立行政法人 産業技術総合研究所
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大橋 憲太郎
金沢工業大学
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那須 昭一
金沢工業大学工学部
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那須 昭一
金沢工業大学
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堀内 健史
金沢工業大学
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酒井 滋樹
産業技術総合研究所
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杉俣 悦郎
産業技術総合研究所
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高橋 光恵
産業技術総合研究所
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堀内 健史
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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高野 幹夫
京大物細
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林 直顕
京大人環
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高野 幹夫
京都大学化学研究所
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高野 幹夫
京大物質細胞:生産開発研
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高砂工業(株)
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大研化学工業(株)
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高橋 光恵
(独)産業技術総合研究所
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酒井 滋樹
(独)産業技術総合研究所
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伊納 義孝
金沢工業大学
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安藤 智公
金沢工業大学
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林 直顕
京都大学化学研究所
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大橋 憲太郎
金沢工大
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高橋 光恵
独立行政法人 産業技術総合研究所
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酒井 滋樹
独立行政法人 産業技術総合研究所
著作論文
- Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Hf-Al-O/Siダイオードの素子特性に及ぼすHf-Al-O層への窒素導入の効果
- Bi_2Sr_2CaCu_2O_y超伝導体へのインターカレーションの研究
- Bi-2212相超伝導体へのヨウ化鉄インターカレーションの研究
- HfAlOバッファ層を用いた強誘電体ゲートFETの電気的特性とバッファ層の製膜条件との関係
- Bi_2Sr_2CaCu_2O_y単結晶体へのMo存在下のヨウ素インターカレーションの研究