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中村 篤 | 株式会社日立製作所半導体事業部
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株式会社日立製作所半導体事業部の論文著者
株式会社日立製作所半導体事業部 | 論文
ボロンガスクラスターイオンビームドーピングによるPMOSFETのエクステンション形成(半導体Si及び関連材料・評価)
Si上極薄SiO_2膜帯電のX線照射時間依存性
3V単一電源64Mビットフラッシュメモリ用AND型セル
ファイル応用を指向した256MビットDRAMの回路技術
高速/高信頼性130nm-node MRAM(新型不揮発性メモリ)
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