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吉野 明 | 日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所
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日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所 | 論文
FN-NOR型4値セルを用いた98mm^2、64Mbフラッシュメモリ
ロジック混載用フラッシュメモリセルの検討
不揮発性メモリとそのスケーリング
2段階消去法によるフラッシュメモリ消去しきい値制御
SOI基板で増速酸化が生じる臨界Cu汚染量
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