ダイヤモンド分散 ZnS 赤外線窓材の作製と評価
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本赤外線学会の論文
- 2003-03-15
著者
-
中山 茂
住友電気工業株式会社
-
和田 英男
防衛庁技術研究本部
-
藤井 明人
住友電気工業株式会社
-
和田 英男
防衛庁技術研究本部第2研究所
-
柴田 憲一郎
住友電気工業株式会社
-
林 健一
防衛庁技術研究本部第2研究所
-
長谷川 幹人
住友電気工業株式会社
-
中山 茂
住友電気工業
-
和田 英男
防衛庁 技術研究本部 第二研
-
長谷川 幹人
住友電気工業
-
藤井 明人
住友電気工業
-
林 健一
防衛庁技術研究本部第2研究所第3部光波電子戦研究室
関連論文
- 検出器
- 放射率法によるSi中の酸素濃度測定
- メサ型 HgCdTe 素子中の深い準位の評価
- メサ型HgCdTe素子中の深い準位の評価
- 256×256画素小型非冷却赤外線カメラ
- 256×256画素小型非冷却赤外線カメラ
- Si基板上MCT薄膜結晶と不純物ドーピング
- P-31 二次元照射PASとCdS : Cuの電子構造(ポスター・セッション)
- 日本における赤外線センサ技術の開発
- 多結晶 GaAs への AR および DLC コーティング特性
- ダイヤモンド分散 ZnS 赤外線窓材の作製と評価
- 非冷却赤外線センサ
- 3)ボロメータ型非冷却赤外線センサ(情報センシング研究会)
- ボロメータ型非冷却赤外線センサ
- 256x256画素ボロメータ型非冷却赤外線センサ
- 2-6 256×256画素ボロメータ型非冷却赤外線撮像装置
- 高精細赤外線撮像実験装置について
- ホログラフィック光学素子の複色化について
- 512×512画素GeSi/Siヘテロ接合赤外線検知素子
- 12-5 512x512画素GeSi/Siヘテロ接合赤外線検知器
- GeSi/Siヘテロ接合赤外線受光素子
- 非冷却赤外線センサシステムにおける視認性改善処理
- 128×128画素量子井戸型赤外線検知素子
- ダイヤモンド分散ZnS赤外線窓材
- レーザーアブレーション法によるLa_Ca_xMnO_z薄膜の酸素欠乏効果
- La0.7Ca0.3MnO3薄膜のX線光電子分光スペクトル
- 多結晶GaAsへのAR及びDLCコーティング特性
- Bi添加LSMOのボロメータ材料特性評価
- YBaCuO非冷却赤外線ボロメータ素子
- ボロメータ型赤外線イメージセンサとその将来動向
- Si系モノリシック赤外線センサ
- Si基板上HgCdTe薄膜結晶における不純物ド-ピング
- 非冷却赤外線センサー材料としての酸化バナジウム薄膜の特性評価
- 赤外線ド-ム材料の高温光学特性
- シリーズ基礎技術講座(シリーズ7)光波技術 第3講 光波センサ技術(その2)
- 基礎技術講座(シリーズ12)光波技術(第2講)光波センサ技術(前編)
- 多結晶BaF2の光学特性
- 多結晶スピネルの光学特性
- 非冷却赤外線センサシステムにおける視認性能改善