化学修飾アルコキシド法による多孔質酸化物薄膜の開発
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概要
著者
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鳥山 素弘
通産省工業技術院名古屋工業技術研究所
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淡野 正信
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門
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鳥山 素弘
産業技術総合研究所
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黄 海鎮
(独)産業技術総合研究所 シナジーマテリアル研究センター
-
烏山 素弘
名古屋工業技術試験所
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