1B05 流動層 CVD による AlN-TiN-YN 系微粉末の合成と焼結
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本セラミックス協会の論文
- 1992-05-20
著者
関連論文
- P-32 金属微粒子の到達高さを傍証として用いた歯科診療室内における粉塵の挙動(臨床応用,第52回日本歯科理工学会学術講演会)
- 1I19 ZrO_2 の浮上式窒化法による ZrN 微粉末の合成とその特性
- 1A14 TiO_2 粉末の浮上式還元窒化法による TiN 微粉末の合成とその特性
- 1G12 浮上式還元窒化反応で合成した TiN 微粉末の特性
- 1G11 ZrO_2 粉末の浮上式還元窒化反応
- 1G10 N_2-O_2 混合ガス気流中における Al 粉末の酸窒化反応
- 2G21 TiCl_4-NH_3-N_2 系の CVD 反応による TiN 微粉末の合成と焼結
- 2G18 浮上式窒化法で合成した AlN 粉末からの ALON セラミックスの作製
- ソ-プフリ-重合による顔料のカプセル化に及ぼす水溶性高分子種の添加の影響
- 懸濁重合による窒化アルミニウム微粉末とポリスチレンとの複合体粒子の調製