Ab Initio Study of Divalent $3d$ Transition Metal Impurities in KMgF3 and BaLiF3
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概要
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Divalent $3d$ transition metal impurities (V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, and Cu) in KMgF3 and BaLiF3 have been investigated by local-spin-density approximation (LSDA)-based ab initio calculations using an ultrasoft pseudopotential method and a planewave basis set. The results of numerical calculations show that the $3d$ transition metal impurities exhibit mid-gap levels and that the electronic transition from impurity levels to the conduction band results from the absorption of vacuum ultraviolet (VUV) light with energy lower than band-gap width. Therefore, $3d$ transition metal contaminations in KMgF3 and BaLiF3 should be avoided for VUV lithographic lens applications.
- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2003-08-15
著者
-
水関 博志
東北大学金属材料研究所
-
Kawazoe Yoshiyuki
Institute For Material Research Tohoku University
-
PAWLAK Dorota
Institute for Materials Research
-
ICHINOSE Noboru
Kagami Memorial laboratory for Materials Science and Technology, Waseda University
-
Shimamura Kiyoshi
Kagami Memorial Laboratory For Materials Science And Technology Waseda University
-
Terakubo Noriaki
Institute For Materials Research (imr) Tohoku University
-
Fukuda Tsuguo
Institute For Material Research Tohoku University
-
Nishimatsu Takeshi
Institute For Materials Research (imr) Tohoku University
-
Mizuseki Hiroshi
Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan
-
Mizuseki Hiroshi
Institute for Materials Research, Tohoku University, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan
-
Hiroshi Mizuseki
Institute of Materials Research (IMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980 8577, Japan
-
Shimamura Kiyoshi
Kagami Memorial Laboratory for Materials Science and Technology, Waseda University, Tokyo 169-0051, Japan
-
Terakubo Noriaki
Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan
-
Fukuda Tsuguo
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan
-
水関 博志
Institute for Materials Research, Tohoku University
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