水平ダクト内層流共存対流場での縦渦列
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概要
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下板が加熱され上板が冷却されている水平平行平板を有するアスペクト比20のダクト内の層流共存対流場で発生する縦渦列に関し, 実験および数値解析により考察した. Gr数を増加させると縦渦の発生個数は2個づつ段階的に増加するが, 渦の幅の分布状態はGr数に依存している.渦の発生個数は, 段階的に増加するが, 個々の渦に対する無次元循環流量Qと無次元渦幅Wとの比は, 次式のごとくGr数の連続関数で与えられる.<BR>Q/W=5.5 (Gr/Gr<SUB>c</SUB>-1) <SUP>0.58</SUP><BR>ただし, Gr<SUB>c</SUB>は臨界Gr数である.
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