簡便なプレーナマグネトロン形RFスパッタ装置
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概要
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A simple design of a planar magnetron-type RF sputtering system is proposed in an attempt to obtain high deposition rate for relatively low RF power without any expensive components. The detailed design of a target assembly suitable for use in a conventional vacuum evaporation system is presented. The most desirable magnitude of the magnetic flux density in radial direction on the target surface is shown to be 600 to 800 gauss.
- 日本真空協会の論文
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