液晶ディスプレイパネルの電極形成技術

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概要

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• Fine patterning technology of ITO and Ni on the Cr (Ni/Cr) bilayer film electrode for LCD panel was studied. Hl or HBr solution was found to be the most suitable etching solution for ITO because of small undercutting property.<BR>For preferential etching for Ni/Cr double bilayer electrode on ITO, mixed solution of CH<SUB>3</SUB>COOH-HNO<SUB>3</SUB>-H<SUB>2</SUB>SO<SUB>4</SUB> H<SUB>3</SUB>PO<SUB>4</SUB> was found to be most suitable for Ni film, while for Cr film, Ce (NO<SUB>3</SUB>) <SUB>4</SUB>·2NH<SUB>4</SUB>NO<SUB>3</SUB> solution was found most suitable. For Ni etching, HNO<SUB>3</SUB> was the most effective component because it shifted the electrode potential to the nobler direction, resulting in an increased etching rate.

• 日本真空協会の論文

著者

• 府山 盛明

  株式会社日立製作所日立研究所

• 華園 雅信

  株式会社日立製作所日立研究所

• 森尻 誠

  株式会社日立製作所日立研究所

• 田村 克

  株式会社日立製作所日立研究所

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