超音波照射用音響窓付き付着細胞培養フラスコの開発
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概要
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近年、脳腫瘍治療に経頭蓋HIFU(High Intensity Focused Ultrasound)治療装置が用いられている。この治療法には,低侵襲であること,放射線治療と異なり繰り返し治療が可能という利点がある。その一方で,加熱凝固、壊死させるためにネクローシスが発生し,周囲にある正常な脳組織に影響を与えてしまう可能性が考えられる。そこで我々は,超音波照射による脳腫瘍細胞のアポトーシス誘導を治療に利用する検討を行っている。しかし超音波照射対象の脳腫瘍細胞を入れる容器に市販の細胞培養フラスコ(ポリスチレン製、超音波入射面の厚さ約2mm)を使用すると、フラスコの表面(固有音響インピーダンスが異なる境界面)で超音波エネルギーが反射し,細胞まで到達しないという問題があった。そこで独自に,超音波照射用音響窓付き付着細胞培養フラスコを作製する必要性が出てきた。本報では超音波照射用音響窓付き細胞培養容器の作製に関する検討について述べる。
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2013-05-20
著者
-
西村 裕之
桐蔭横浜大 大学院工学研究科
-
渡邉 晶子
桐蔭横浜大学大学院工学研究科
-
竹内 真一
桐蔭横浜大
-
西村 裕之
桐蔭横浜大学工学研究科医用工学専攻
-
岩城 咲乃
桐蔭横浜大学工学研究科医用工学専攻
-
薬袋 正恒
桐蔭横浜大学工学研究科医用工学専攻
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