紫外光用ポーラスシリカトゥルーゼロオーダー波長板(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般)
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概要
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(110)シリコンウェハーの陽極化成により作製したポーラスシリコンは面内に屈折率異方性を示す。この複屈折性ポーラスリコンの酸化により、複屈折性ポーラスシリカを作製した。作製した複屈折性ポーラスシリカの屈折率異方性(Δn)は酸化条件により異なり、Δnの最小値は0.001であった。複屈折性ポーラスシリカを用いて深紫外領域で機能するトゥルーゼロオーダー波長板を作製し、その特性評価を行った。
- 2011-12-09
著者
-
林 真至
神戸大院工
-
藤井 稔
神戸大学工学部
-
林 真至
神戸大学工学部
-
今北 健二
神大院自然
-
Fujii Masatoshi
Department Of Chemistry Graduate School Of Science Tokyo Metropolitan University
-
林 真至
神戸大
-
志智 慎介
神戸大学工学研究科
-
今北 健二
神戸大学工学研究科
-
藤井 稔
神戸大学工学研究科
-
林 真至
神戸大学
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