5.大規模マイクロ波ラインプラズマの開発(<小特集>実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新〜平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ〜)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
本研究は近年急速に基板サイズの大面積化が進んでいるフラットパネルディスプレイ, 太陽電池パネルや各種フィルムの表面処理など大面積の基板を対象とするプロセス用プラズマ源として, 大規模マイクロ波ラインプラズマの発生技術を検討したものである.均一性の高いライン状プラズマをマイクロ波技術で実現し, 大面積プラズマプロセスに応用するものであり, 発生技術に関して原理的実証を行うとともに, 大規模マイクロ波ラインプラズマの生成技術をライン長1m, 2mについて装置開発の視点から実験的検討を行った.
- 2011-01-25
著者
関連論文
- 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
- 情報通信電子工学科の目的と特徴(情報理工学部各学科の目的と特徴)
- 高機能分析チップ作製のための石英の深さ100μm以上のディープドライエッチング(エレクトロニクス(電子工学)特集)
- 大規模マイクロ波ラインプラズマの開発 (小特集 実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新--平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ)
- テトラフルオロエチルトリフルオロメチルエーテル(HFE 227)への有機シラン添加による高選択比・高アスペクト比酸化膜エッチング
- 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
- 3.計測とモデリング : 3.2負イオンとシース構造 : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
- 負イオンプラズマによるシリコンエッチング
- 4. 高密度RFプラズマによる高速・高選択比SiO_2エッチングと反応機構 (ドライエッチング用プラズマ)
- 5.大規模マイクロ波ラインプラズマの開発(実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新〜平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ〜)