自己組織化単分子ゲート膜を用いた2V駆動有機トランジスタの熱安定性(センサ,デバイス,一般)
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概要
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我々は自己組織化単分子膜(SAM膜)をゲート絶縁体に用いたトランジスタの熱安定性を調べた。通常のトランジスタではおよそ100℃程度の加熱で移動度が室温時の0.55cm^2/Vsから0.25cm^2/Vsに減少しon/off比の低下などの劣化が見られた、一方でトランジスタ構造の上から高分子膜による封止を行った場合、140℃の加熱でもトランジスタは0.81cm^2/Vsという高い移動度を保持し、劣化は13%の減少に止まった。有機半導体に用いたペンタセン薄膜のX線回折ピークを同じ加熱条件で比較したところ封止なしでは100℃付近で伝導に寄与しないバルク相が現れたが、封止したものでは160℃においても現れないことを確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2010-01-05
著者
-
関谷 毅
東京大学
-
染谷 隆夫
東京大学
-
横田 知之
東京大学工学系研究科
-
栗原 一徳
東京大学工学系研究科
-
Zschieschang Ute
マックスプランク研究所
-
Klauk Hagen
マックスプランク研究所
-
染谷 隆夫
東京大学大学院工学系研究科
-
関谷 毅
東京大学大学院工学系研究科
-
栗原 一徳
東京大学大学院工学系研究科
-
福田 憲二郎
東京大学大学院工学系研究科
-
横田 知之
東京大学大学院工学系研究科
-
Zschieschang Ute
マックスプランク研
-
栗原 一徳
工学系研究科物理工学専攻,東京大学
-
福田 憲二郎
工学系研究科物理工学専攻,東京大学
-
横田 知之
工学系研究科物理工学専攻,東京大学
-
関谷 毅
工学系研究科物理工学専攻,東京大学
-
染谷 隆夫
工学系研究科物理工学専攻,東京大学
-
ZSCHIESCHANG Ute
Max Planck Institute for Solid State Research
-
KLAUK Hagen
Max Planck Institute for Solid State Research
-
Klauk Hagen
マックスプランク研
-
福田 憲二郎
工学系研究科物理工学専攻 東京大学
-
染谷 隆夫
東京大学大学院工学系研究科電気系工学専攻
-
関谷 毅
東京大学大学院工学系研究科電気系工学専攻
-
染谷 隆夫
マックスプランク研究所
-
染谷 隆夫
東京大学 大学院工学系研究科
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