C-6-16 AFMリソグラフィによるナノコンタクトの作製(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
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概要
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The purpose of this study is to fabricate nano-contacts on ferromagnetic patterned thin film by nanolithography technique using atomic force microscope (AFM) and to observe attractive current-voltage and magnetoresistance characteristics. Direct scratch lithography was performed on NiFe thin films using AFM cantilever with various parameters of cantilever force, speed and count of scans. The nano-contact of 139 nm width and 3.0×10^2 nm^2 cross sectional area was successfully fabricated.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-09-01
著者
-
竹村 泰司
横浜国立大学工学部
-
山田 努
横浜国立大学工学部
-
チャン キョンミン
横浜国立大学
-
山田 努
横浜国立大学
-
岩田 大輔
横浜国立大学
-
竹村 泰司
横浜国立大学
-
菅沼 秀教
横浜国立大学
-
竹村 泰司
横浜国立大
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