AFM探針スクラッチナノ加工による強磁性パターン薄膜の狭窄化(材料デバイスサマーミーティング)
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概要
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本研究は、原子間力顕微鏡(AFM:atomic force microscope)によるダイレクト・スクラッチ加工技術を用いて、強磁性細線に狭窄化を施すことによってナノ接合部を作製し、特異な電流電圧特性や磁気抵抗効果を観測することを目的とした。ここでは、NiFe薄膜に対するAFMスクラッチリソグラフィを、カンチレバーの加重、走査速度、走査回数を変化させて行い、加工具合がそれぞれのパラメータにどのように依存しているか観測した。そして、実際にAFMスクラッチ加工を利用してNiFeパターン細線に狭窄化を施したところ、接合幅139nm、断面積3.0×10^2nm^2のナノ接合部の作製に成功した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-06-12
著者
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