18aA02 立方晶III族窒化物MBEエピタキシャル成長における構造欠陥の発生と制御(立方晶GaN結晶成長を考える,ナノ・エピシンポジウム,第35回結晶成長国内会議)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Although cubic III-nitrides have been successfully grown on several kinds of cubic substrates, including GaN, AlN, AlGaN, InGaN etc., their quality improvement is not enough compared with the hexagonal phase. The most serious problem is the occurrence of phase mixing and stacking fault. The experimental results of their occurrence are shown, and the formation mechanism is disucussed. Several approaches for the suppression of such defects are also shown.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2005-08-17
著者
関連論文
- 立方晶および六方晶InGaNの発光特性比較 : 分極効果の有無と励起子局在効果(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 3J1-3 超音波マイクロスペクトロスコピー技術を用いた4H-SiC単結晶の評価(超音波物性・光超音波)
- シリコンカーバイドおよび関連材料に関する国際会議2007報告
- 立方晶および六方晶InGaNの発光特性比較 : 分極効果の有無と励起子局在効果(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 21pYC-3 GaN(0001) 結晶成長時における Si 原子の役割と振る舞いの理論解析
- 18aA02 立方晶III族窒化物MBEエピタキシャル成長における構造欠陥の発生と制御(立方晶GaN結晶成長を考える,ナノ・エピシンポジウム,第35回結晶成長国内会議)
- 立方晶3族窒化物半導体量子構造のMBE成長と評価 (特集 ナイトライドセラミックスの新展開(1))
- 立方晶および六方晶GaNエピタキシャル層における自由励起子スペクトル (特集:ワイドギャップ窒化物半導体)
- シリコンカーバイド及び関連材料に関する国際会議報告