次世代半導体デバイス3次元シミュレータの開発(2) : 立体構造の容易生成と高品質メッシュシステム(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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概要
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より使いやすいシミュレータ開発を目指しマスクベース三次元モデリング法を提案、非直線性ゆらぎ(LER)の形状を乱数で自然的に生成することとLER付随のドーピングの自動設定を実現した。直交メッシュの断面メッシュを粗くすることで、高い効率のメッシュ設定を可能にし、生成メッシュをモニター面垂直方向に適用(押し出し)することで、3Dメッシュをリアルタイムで生成することができた。乱数によるバラツキ発生モデルにより、不純物濃度のバラツキを再現することもできた。
- 2008-11-06
著者
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朱 日明
アドバンスソフト株式会社技術第1部
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佐藤 昌宏
アドバンスソフト株式会社技術第1部
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桜井 清吾
アドバンスソフト株式会社技術第1部
-
山口 憲
アドバンスソフト株式会社技術第1部
-
桜井 清吾
アドバンスソフト(株)
-
山口 憲
アドバンスソフト株式会社
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