C-4-21 注入キャリヤによる量子井戸の変形に関するシミュレーション(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2009-03-04

著者

• 須崎 渉

  大阪電気通信大学工学研究科

• 須崎 渉

  大阪電気通信大学大学院工学研究科

• 伊名田 剛司

  大阪電気通信大学

• 伊名田 剛司

  大阪電気通信大学大学院工学研究科

• 須崎 渉

  大阪電気通信大学

関連論文

• 1.3μmおよび1.5μm-InGaAsPレーザダイオードの再結合係数の測定
• C-4-21 注入キャリヤによる量子井戸の変形に関するシミュレーション(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• C-4-22 バンドオフセットの異なる量子井戸レーザのキャリヤ寿命時間の温度特性(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• C-4-23 InGaP量子井戸レーザを用いたフォトリフレクタンス法によるInGaAs量子井戸の評価(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響
• 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
• 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,および一般)
• 半導体レーザーの基礎 III
• 半導体レーザーの基礎II
• 半導体レーザーの基礎 I
• 水冷式分子線成長法によるAlGaAs多層膜の形成
• 水冷式MBEによるAlGaAs多層膜の形成(平成9年度第3回)関西支部研究例会の講演要旨
• 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク