須崎 渉 | 大阪電気通信大学工学研究科
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概要
関連著者
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須崎 渉
大阪電気通信大学工学研究科
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須崎 渉
大阪電気通信大学大学院工学研究科
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須崎 渉
大阪電気通信大学
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角田 慎一
大阪電気通信大学大学院工学研究科
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西村 英晋
大阪電気通信大学大学院工学研究科
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田中 将士
大阪電気通信大学 大学院 工学研究科
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伊名田 剛司
大阪電気通信大学
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林 智規
大阪電気通信大学
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徳田 悟
大阪電気通信大学
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末金 皇
大阪電気通信大学
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森口 安規
大阪電気通信大学
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末金 皇
大阪大学産業科学研究所
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伊名田 剛司
大阪電気通信大学大学院工学研究科
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日高 渉
大阪電気通信大学工学研究科
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樋口 英世
大阪電気通信大学大学院工学研究科
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井川 貴雄
大阪電気通信大学大学院工学研究科
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杉浦 友彦
大阪電気通信大学大学院工学研究科
著作論文
- 1.3μmおよび1.5μm-InGaAsPレーザダイオードの再結合係数の測定
- C-4-21 注入キャリヤによる量子井戸の変形に関するシミュレーション(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- C-4-22 バンドオフセットの異なる量子井戸レーザのキャリヤ寿命時間の温度特性(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- C-4-23 InGaP量子井戸レーザを用いたフォトリフレクタンス法によるInGaAs量子井戸の評価(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響
- 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
- 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,および一般)
- 半導体レーザーの基礎 III
- 半導体レーザーの基礎II
- 半導体レーザーの基礎 I
- 水冷式分子線成長法によるAlGaAs多層膜の形成
- 水冷式MBEによるAlGaAs多層膜の形成(平成9年度第3回)関西支部研究例会の講演要旨
- 量子井戸レーザにおけるバンドオフセットのキャリヤ再結合寿命に与える影響(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)