23pXB-2 SiO_2上極薄Si層のディウェッティング過程の温度依存性(23pXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))

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概要

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• 2008-08-25

著者

• 須藤 孝一

  阪大産研

• 須藤 孝一

  阪大工

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