C-3-61 紫外光照射による石英系導波路作製技術を用いた高密度サンプルトグレーティング導波路の作製(ファイバグレーティング,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-03-07
著者
-
柏木 謙
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
-
山下 真司
東京大学大学院
-
山下 真司
東京大学工学系研究科電気系工学専攻
-
山下 真司
東京大学大学院電子工学専攻
-
山下 真司
東京大学大学院新領域創成科学研究科:科学技術振興事業団戦略的基礎研究推進事業
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