(10)光学多層薄膜と金属 : 絶縁体転移材料の最適設計によるふく射熱制御の研究(研究奨励,日本機械学会賞〔2004年度(平成16年度)審査経過報告〕)
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25pZB-4 荷電粒子線照射による水素化アモルファスシリコンの光伝導度変化2(放射線物理(イオン-固体相互作用・放射線損傷・核反応),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
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