ホログラフィック2光子造形法によるフォトレジストを用いた3次元構造の作製(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
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概要
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ホログラフィック2光子造形法は,空間光変調素子上に表示した計算機ホログラムによりフェムト秒レーザーパルスを空間的に分割して,光感光性材料内部に照射し,高スループットで3次元構造を形成する手法である.計算機ホログラムによって形成されるパターンは,空間光変調素子により切替え表示されるため,任意のマイクロ構造を高速に作製可能である.本報告では,フォトレジストを用いて,ホログラフィックな並列照射と自動ステージによる材料の移動を組み合わせることにより,光導波路のような線状構造や3次元構造の作製について述べる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-01-22
著者
-
高橋 秀知
徳島大学工学部光応用工学科
-
早崎 芳夫
徳島大学工学部光応用工学科
-
早崎 芳夫
宇都宮大
-
西谷 麻希
徳島大学工学部光応用工学科
-
早崎 芳夫
宇都宮大学オプティクス教育研究センター
-
早崎 芳夫
徳島大学工学部
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