20aYA-4 ポテンシャルスパッタリングによる金属表面からのH^+放出(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2005-08-19
著者
-
本橋 健次
農工大院工
-
鶴淵 誠二
農工大院工
-
本橋 健次
農工大工
-
本橋 健次
農工大・工
-
鶴淵 誠二
東京農工大工
-
鶴渕 誠二
農工大工
-
今野 深貴
農工大院工
-
細矢 景
農工大院工
-
Tsurubuchi Seiji
Tokyo University Of Agriculture And Technology Faculty Of Technology
-
Sekioka Tsuguhisa
Faculty Of Engineering Himeji Institute Of Technology
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