532 Si酸化膜CMPの研磨性能におよぼす界面活性剤の影響(OS11 研削・砥粒加工)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
The processes of chemical mechanical polishing (CMP) are widely used to achieve global .planarization for the next generation of integrated circuit. CMP slurry, which includes abrasive particles, must be optimized to obtain more precious wafer flatness. We investigate the polishing mechanism of CMP with CeO_2 slurry from the scale of a single slurry particle by the fine wear test using atomic force microscope. The CeO_2 particle is modeled by the AFM tip with CeO_2 coating. The non-linear property, which is derived from the effect of surfactant, between polishing rate and contact force is found in the single particle scale.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2004-11-19
著者
関連論文
- 放電加工による硬質被膜の摩擦摩耗特性(第3報) : 窒化ホウ素を混入した水素化チタン焼結体電極を用いた場合
- PTFEと窒化ホウ素を分散した無電解ニッケルリンめっき膜の摩擦摩耗特性に及ぼす摩耗粉の影響
- TiC焼結体電極を用いた放電表面改質膜の形成メカニズムに関する一考察
- 放電加工による硬質被膜の摩擦摩耗特性(第2報) : 炭化チタン焼結体電極を用いた場合
- 放電加工による硬質被膜の摩擦摩耗特性(第1報) : 水素化チタン圧粉体電極を用いた場合
- 高速表面改質放電加工における堆積機構の研究(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 放電加工による表面改質ドリルの実用化研究
- 331 放電表面処理によるTiC被膜の摩擦・摩耗特性(2)(OS1 金型の製作,放電加工)
- 410 放電表面処理被膜の特性(OS8 電気加工の基礎と応用)
- TiC焼結体電極による放電表面改質膜の研究
- 放電表面処理技術の開発とその利用 (特集 ハイテク時代の精密放電加工機)
- 放電表面処理被膜の特性
- 放電表面改質膜の結晶構造に関する研究
- 114 放電表面処理による TiC 被膜の摩擦・摩耗特性
- 放電加工機による硬質被膜形成技術の開発とその製品化
- 放電表面処理装置(EDCOAT)の開発
- 複合構造体電極における堆積機構の研究
- 複合構造体電極における・電極構造の研究
- 複合構造体電極による成膜特性の研究
- 放電表面処理(EDC)による被膜特性の研究
- 17% Crステンレス鋼のリジングに関する研究(X線材料強度小特集)
- 切削加工した鋼材の表面残留応力に及ぼすカッター速度の影響に関するX線的研究
- 632 金属材料の弾性係数に及ぼす第 2 種の集合組織の影響(電磁鋼板・集合組織・熱延薄板・線材, 材料, 日本鉄鋼協会第 104 回(秋季)講演大会)
- 炭素鋼の研削および切削加工層のX線残留応力測定(X線材料強度小特集)
- 原子間力顕微鏡によるCMPのシミュレーション(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 532 Si酸化膜CMPの研磨性能におよぼす界面活性剤の影響(OS11 研削・砥粒加工)
- 2422 AFM による化学的機械研磨現象のシミュレーション
- 薄肉円筒部を軸受端に有する傾斜対策軸受の負荷容量
- 軸傾斜の方向と大きさがジャーナルすべり軸受の性能に及ぼす影響
- スパイラルグルーブ空気軸受のマイクロ化
- 3305 1000m/min.級エレベータ非常止め装置用シュー材の摩擦特性(OS4 高速化とサービス向上)
- 多数のパッドを用いるジャーナルすべり軸受の性能と解析
- 冷媒圧縮機における銅の析出現象に及ぼす冷凍機油としゅう動材料の影響
- 家電品に使用される圧縮機のトライボロジー
- 718 1条ねじと2条ねじを組合せたスクリュー圧縮機に関する研究(GS-11 動力伝達)
- 421 圧電素子を用いたアクティブ摩擦ブレーキ装置(GS-11 機械要素(2))