原子間力顕微鏡によるCMPのシミュレーション(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• A micro-contact model for chemical mechanical polishing (CMP) of Si wafer is presented. The model is developed on the basis of the Greenwood-Williamson micro-contact mechanics. The atomic force microscope (AFM) is used as a polishing test apparatus to evaluate the removal rate by a single particle in CMP slurry. Using this model and AFM, the simulation on polishing of Si0_2 is performed.The model is evaluated by comparing the simulated polishing rate and that experimentally determined by real CMP processes. The validity of the AFM wear test and the contact model proposed is discussed.

• 社団法人日本機械学会の論文
• 2005-01-25

著者

• 松川 公映

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 三好 淳之

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 松尾 洋

  ルネサクテクノロジ(株)

• 酒井 忠之

  ルネサクテクノロジ(株)

• 野末 勝

  ルネサクテクノロジ(株)

関連論文

• 放電加工による硬質被膜の摩擦摩耗特性(第3報) : 窒化ホウ素を混入した水素化チタン焼結体電極を用いた場合
• PTFEと窒化ホウ素を分散した無電解ニッケルリンめっき膜の摩擦摩耗特性に及ぼす摩耗粉の影響
• TiC焼結体電極を用いた放電表面改質膜の形成メカニズムに関する一考察
• 放電加工による硬質被膜の摩擦摩耗特性(第2報) : 炭化チタン焼結体電極を用いた場合
• 放電加工による硬質被膜の摩擦摩耗特性(第1報) : 水素化チタン圧粉体電極を用いた場合
• 高速表面改質放電加工における堆積機構の研究(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
• 放電加工による表面改質ドリルの実用化研究
• 331 放電表面処理によるTiC被膜の摩擦・摩耗特性(2)(OS1 金型の製作,放電加工)
• 410 放電表面処理被膜の特性(OS8 電気加工の基礎と応用)
• TiC焼結体電極による放電表面改質膜の研究
• 放電表面処理技術の開発とその利用 (特集 ハイテク時代の精密放電加工機)
• 放電表面処理被膜の特性
• 放電表面改質膜の結晶構造に関する研究
• 114 放電表面処理による TiC 被膜の摩擦・摩耗特性
• 放電加工機による硬質被膜形成技術の開発とその製品化
• 放電表面処理装置(EDCOAT)の開発
• 複合構造体電極における堆積機構の研究
• 複合構造体電極における・電極構造の研究
• 複合構造体電極による成膜特性の研究
• 放電表面処理(EDC)による被膜特性の研究
• 原子間力顕微鏡によるCMPのシミュレーション(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
• 532 Si酸化膜CMPの研磨性能におよぼす界面活性剤の影響(OS11 研削・砥粒加工)
• 2422 AFM による化学的機械研磨現象のシミュレーション
• 薄肉円筒部を軸受端に有する傾斜対策軸受の負荷容量
• 軸傾斜の方向と大きさがジャーナルすべり軸受の性能に及ぼす影響
• 多数のパッドを用いるジャーナルすべり軸受の性能と解析
• 冷媒圧縮機における銅の析出現象に及ぼす冷凍機油としゅう動材料の影響
• 家電品に使用される圧縮機のトライボロジー
• 718 1条ねじと2条ねじを組合せたスクリュー圧縮機に関する研究(GS-11 動力伝達)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク