Fabrication of 5 nm Resolution Electrodes for Molecular Devices by Means of Electron Beam Lithography
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1997-01-15
著者
-
GRELLA Luca
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
BACIOCCHI Marco
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
GENTILI Massimo
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
MASTROGIACOMO Luigi
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
FABRIZIO Enzo
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR-Via Cineto Romano
-
Grella L
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Fabrizio Enzo.
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Fabrizio Enzo
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr
-
Di Fabrizio
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr Via Cineto Romano
-
Gentili Massimo
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Baciocchi Marco
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Mastrogiacomo Luigi
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Grella Luca
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
MORALES Piero
ENEA Centro Ricerche della Casaccia
-
DI FABRIZIO
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
関連論文
- Fast Proximity Corrections for Electron-Beam-Fabricated High Resolution and High-Aspect-Ratio Fresnel Zone Plate
- Nanofabrication of Fresnel Zone Plates for X-Ray Focusing
- Microphotonic Devices Fabricated by Silicon Micromachining Techniques
- Fabrication of High-Resolution Fresnel Zone Plates by a Single Layer Resist Process
- Fabrication of 5 nm Resolution Electrodes for Molecular Devices by Means of Electron Beam Lithography
- Electrorn-Beam Study of Nanometer Performances of the SAL 601 Chemically Amplified Resist