Fabrizio Enzo | Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
FABRIZIO Enzo
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR-Via Cineto Romano
-
Fabrizio Enzo
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr
-
Gentili Massimo
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
GENTILI Massimo
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
Maggiora Romano
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr
-
GRELLA Luca
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
BACIOCCHI Marco
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
MASTROGIACOMO Luigi
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
Grella L
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Fabrizio Enzo.
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Baciocchi Marco
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Mastrogiacomo Luigi
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
Grella Luca
Istituto Di Electronica Dello Stato Solido-cnr
-
PESCHIAROLI Daniela
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
Maggiora R
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr
-
Fabrizio Enzo
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr Via Cineto Romano
-
Di Fabrizio
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr Via Cineto Romano
-
KOMURO Masanori
Electrotechnical Laboratory
-
HIROSHIMA Hiroshi
Electrotechnical Laboratory
-
Gentili Massimo
Istituto Di Elettronica Dello Stato Solido-cnr Via Cineto Romano
-
CBNTILI Massimo
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
CRELLA Luca
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
-
MORALES Piero
ENEA Centro Ricerche della Casaccia
-
GERARDINO Annamaria
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR, Via Cineto Romano
-
Gerardino A
Iess Cnr Roma Ita
-
DI FABRIZIO
Istituto di Elettronica dello Stato Solido-CNR
著作論文
- Nanofabrication of Fresnel Zone Plates for X-Ray Focusing
- Fabrication of High-Resolution Fresnel Zone Plates by a Single Layer Resist Process
- Fabrication of 5 nm Resolution Electrodes for Molecular Devices by Means of Electron Beam Lithography
- Electrorn-Beam Study of Nanometer Performances of the SAL 601 Chemically Amplified Resist