The Influence of X-Ray Irradiation on Structural Relaxation and Crystallization of Amorphous Silicon Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1998-11-15
著者
-
MUTO Shunsuke
Division of Energy Science, Center for Integrated Research in Science and Engineering, Nagoya Univer
-
武藤 真三
山梨大学工学部
-
小林 由美子
名大工
-
Muto Shigeki
Department Of Physics School Of Science Tokai University
-
武藤 真三
山梨大学
-
Kobayashi Yumiko
Department Of Nuclear Engineering Graduate School Of Engineering
-
ECHER Charles
National Center for Electron Microscopy, Lawrence Berkeley Laboratory
-
KOBAYASHI Yumiko
Faculty of Nuclear Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
YU Kin
Lawrence Berkeley National Laboratory
-
WALUKIEWICZ Wladyslaw
Lawrence Berkeley National Laboratory
-
ECHER Charles
Lawrence Berkeley National Laboratory
-
MCCORMICK Scott
Department of Materials Science and Engineering, University of Illinois
-
ABELSON John
Department of Materials Science and Engineering, University of Illinois
-
Muto S
Kek Ibaraki
-
YU Kin
ロ-レンスバークレイ研究所
-
Mccormick Scott
Department Of Materials Science And Engineering University Of Illinois
-
Abelson J
イリノイ大
-
Echer Charles
National Center For Electron Microscopy Lawrence Berkeley Laboratory
-
Muto Shunsuke
Division Of Energy Science Center For Integrated Research In Science And Engineering Nagoya Universi
-
Muto Shinzo
Department Of Electrical Engineering And Computer Science Faculty Of Engineering Yamanashi Universit
-
武藤 俊介
名古屋大学
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