2. シランプラズマ中における原料ガスの解離過程 (<講座>プラズマCVDの基礎)
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概要
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Electron-impact-dissociation process of source gas materials in a silane glow-discharge plasma is reviewed as a typical plasma-chemical-vapor deposition system. The importance of electron-temperature control in preparation of highly stabilized amorphous silicon thin films is emphasized. Finally, a newly found feed-back phenomenon to determine the electron temperature in a reactive silane plasma has been introduced.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2000-08-25
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