プラズマCVDを用いた低音ポリシリコンの高品質化と高速堆積技術
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概要
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低温ポリシリコンを高品質に高速に直接堆積する方法をプラズマCVDを用いて開発してきた。水素原子の効果、イオンの効果、表面終端の効果(水素と塩素の比較)、(低温エピタキシーについてそれぞれ最近得られた成果を紹介する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-04-13
著者
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松田 彰久
電子技術総合研究所
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松田 彰久
産業技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池開発研究ラボ
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近藤 道雄
電子技術総合研究所
-
鈴木 すすむ
電子技術総合研究所
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北河 敏久
電子技術総合研究所
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近藤 道雄
産業技術総合研究所計測太陽光発電研究センター
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