低抵抗Mo-W合金ゲート線TFT-LCD
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概要
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大画面・高精細TFT-LCDに適用可能な低抵抗ゲート線材料としてMo-W合金を開発した。Mo-W合金は抵抗率が15μΩcmであり、現在ゲート線材料としてよく用いられているMo-Ta合金、Cr、α-Taと比べて低抵抗である。また、耐エッチング性、耐熱性に優れており、簡易な工程でゲート線が形成できるため、大画面・高精細TFT-LCDのゲート線材料として有望である。Mo-W合金の薄膜特性、スパッタ特性、テーパエッチング性等の基本評価および9.5インチVGAパーソナルコンピュータ用TFT-LCD、13.8インチワークステーション用TFT-LCDの試作を行い、高精細パネルへの適用可能性を確認した。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1996-02-20
著者
-
辻 博司
(株)東芝 ア***ロセス生産技術部
-
森 一成
(株)東芝 ア***ロセス生産技術部
-
鈴木 幸治
(株)東芝 研究開発センター
-
岡 俊行
(株)東芝研究開発センター
-
熱田 昌巳
(株)東芝研究開発センター
-
原 雄二郎
(株)東芝研究開発センター
-
辻 佳子
(株)東芝研究開発センター
-
池田 光志
(株)東芝研究開発センター
-
小川 吉文
(株)東芝研究開発センター
-
竹村 モモ子
(株)東芝研究開発センター
-
片岡 好則
(株)東芝生産技術研究所
-
重光 由美
(株)東芝ア***ロセス生産技術部
-
土肥 孝行
(株)東芝ア***ロセス生産技術部
-
岡 俊行
(株)東芝 研究開発センター
-
鈴木 幸治
(株)東芝新映像デバイス統括室
-
鈴木 幸治
(株)東芝 材料デバイス研究所
-
池田 光志
(株)東芝 研究開発センター
-
片岡 好則
(株)東芝生産技術センター
-
片岡 好則
(株)東芝 生産技術研究所
-
重光 由美
(株)東芝 ア***ロセス生産技術部
-
竹村 モモ子
(株)東芝 研究開発センター
-
辻 佳子
(株)東芝 研究開発センター
-
小川 吉文
(株)東芝 研究開発センター
-
熱田 昌巳
(株)東芝 研究開発センター
-
原 雄二郎
(株)東芝 研究開発センター
-
土肥 孝行
(株)東芝 ア***ロセス生産技術部
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