埋込みチャンネルCPD形固体撮像素子
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概要
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呼び水転送部を埋込みチャンネル化した新構成のCPD形固体撮像素子を開発した.開発にあたって, MOS形, CCD形撮像素子の長所, 短所を検討したうえに, 従来の表面チャンネルCPD形撮像素子のノイズの低減, 呼び水転送効率への改善を図るため, 呼び水転送部の埋込みチャンネル化をポテンシャルモデルを用いて解析した.これらの結果をもとに, nチャンネル2層ポリシリコン2層アルミニウムプロセス技術を用いて, 2/3インチのイメージサイズの画素数398(H)×496(V)の埋込みチャンネルCPD形撮像素子を設計試作した.本素子ではブルーミング抑圧のためのオーバフロードレイン構造とスミア低減駆動が可能な構成とを導入した.本論文において, ノイズの低減, 呼び水転送効率の改善などの実験結果および, フレーム蓄積モードとフィールド蓄積モードにおける撮像特性について述べる.
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1983-10-20
著者
-
山田 隆博
松下電器
-
山田 隆博
松下電器産業(株)中央研究所
-
千田 耕司
松下電子工業(株)技術開発推進本部電子総合研究所
-
千田 耕司
松下電子工業株式会社電子総合研究所
-
寺川 澄雄
松下電子工業(株) 京都研究所
-
寺川 澄雄
松下電子工業株式会社半導体研究所
-
松田 祐二
松下電子工業(株) 京都研究所
-
堀居 賢樹
松下電子工業株式会社撮像管事業部
-
高村 亨
松下電子
-
広島 義光
松下電子工業(株) 半導体研究所
-
高村 亨
松下電子工業(株) 半導体研究所
-
室園 泉
松下電子
-
室園 泉
松下電子工業株式会社
-
広島 義光
松下電子工業
-
山田 隆博
松下電器産業 先端技研
-
国井 孝雄
松下電子工業(株)半導体研究所
-
小薗 利幸
松下電子工業(株)メモリー(事)
-
堀居 賢樹
松下電子工業
-
小菌 利幸
松下電子工業株式会社 半導体研究所
-
山田 隆博
松下電器産業(株)先端技術研究所
-
千田 耕司
松下電子
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