431 反応性DCスパッタリング法によるTiN_x膜の形成におよぼす各種パラメータの影響
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概要
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- 1991-03-10
著者
-
松田 福久
大阪大学溶接工学研究所
-
中田 一博
大阪大学溶接工学研究所
-
牛尾 誠夫
大阪大学溶接工学研究所
-
舟木 義行
日本電子工業株式会社技術部
-
舟木 義行
日本電子工業株式会社
-
玉本 圭司
日本電子工業(株)
-
舟木 義行
日本電子工業
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