玉本 圭司 | 日本電子工業(株)

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概要

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• 同名の論文著者
• 日本電子工業(株)の論文著者

関連著者

• 玉本 圭司

  日本電子工業(株)

• 松田 福久

  大阪大学溶接工学研究所

• 中田 一博

  大阪大学溶接工学研究所

• 舟木 義行

  日本電子工業株式会社技術部

• 舟木 義行

  日本電子工業株式会社

• 舟木 義行

  日本電子工業

• 牛尾 誠夫

  大阪大学溶接工学研究所

• 北田 智也

  日本電子工業(株)大阪工場

• 品田 学

  (株)リケン

著作論文

• 325 プラズマCVD法によるTiCN膜コーティング(1)
• 431 反応性DCスパッタリング法によるTiN_x膜の形成におよぼす各種パラメータの影響
• プラズマ窒化処理技術
• プラズマ浸炭法
• 金型のトライボロジー特性改善とプラズマ窒化処理 (金型のトライボロジー特性と表面改質技術)

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