画像処理によるX線回折像の修正と応用
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概要
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X線回折像には原子の配列に依存する干渉性の回折像の他に、非弾性散乱に基づく非干渉性の散乱や吸収による減衰、X線光子数の揺らぎによる雑音等,求像解析には不必要な妨害散乱が重量している。特に解析の困難な非晶質材料の回折像における妨害散乱の除去に画像処技術を応用した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-05
著者
-
竹歳 和久
国士舘大学工学部
-
斎藤 仁
国士舘大学工学部
-
竹歳 和久
国士館大学工学部
-
泉谷 弘志
国士館大学工学部
-
斎藤 仁
国士館大学工学部
-
丸山 浩二
国士館大学工学部
-
竹歳 和久
NHK総合技術研究所
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