実用的な新超解像技術の開発
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概要
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近年、輪帯照明等の斜入射照明法やハーフトーン位相シフト法を用いた、超解像技術が提案されている。斜入射照明法は、密集パターンの焦点深度を拡大することができる。ただし同照明法は、孤立パターンに対しては効果が無い。また同照明法は、照度の低下、照度ムラの増大、ディストーションの変化、パターンの疎密性や方向性に対する制約等の、実用化に向けて解決を要する問題点を有している。一方ハーフトーン位相シフト法は、孤立パターンの焦点深度を拡大することができる。ただし同技術は、密集パターンにおいて2次ピークが解像するという問題点を有している。実デバイスパターンでは、様々な密度のパターンが混在しているため、あらゆるパターンで焦点深度を拡大することが要求される。本稿ではこの要求を満たし、あらゆるパターンで焦点深度を拡大することができる新超解像技術について述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-05
著者
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小田 達治
ソニー株式会社
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小田 達治
ソニー株式会社 セミコンダクタカンパ二ー 超lsi研究所
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植松 政也
ソニー株式会社 セミコンダクタカンパ二ー 超LSI研究所
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小川 透
ソニー株式会社 セミコンダクタカンパ二ー 超LSI研究所
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竹内 幸一
ソニー株式会社 セミコンダクタカンパ二ー 超LSI研究所
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