微細パターン表面処理基板上への Ce 置換 YIG 薄膜の作成
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概要
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希土類鉄ガーネットは、大きな磁気光学効果を有し, 光アイソレータ等の磁気光学デバイスへの応用が期待されている. 特に Ce 置換希土類鉄ガーネット (Ce 置換 RIG) は他の希土類鉄ガーネットに比較して非常に大きなファラデー回転係数を持つ. 既に五味らにより記録用単結晶膜が、美野らにより導波路応用のための薄膜が作成されている. 我々は先に, アルゴンイオンビームエッチングによる表面処理基板上への Ce 置換 YIG 薄膜作成において, イオンビームエネルギーの大きさにより薄膜の結晶性, 結晶成長開始温度に変化が見られることを報告した. 今回, フォトレジストマスクを用い, 微細パターンを有する基板表面処理部を形成し単結晶領域とアモルファス領域の微細化を試み, 膜の断面形状を調べた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-08-13
著者
-
岡村 康行
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
木村 真
アーズ(株)
-
山本 錠彦
大阪大学大学院 基礎工学研究科
-
岡村 康行
大阪大学大学院 基礎工学研究科システム創成専攻電子光科学領域
-
岡野 英明
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
本村 真
大阪大学大学院基礎工学研究科
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