超高速光伝送装置の超高速多重/分離回路構成
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概要
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近年、伝送路の高速、大容量化のため、ITU-T勧告に準拠した超高速光伝送装置の開発が進められている。今回、超高遠光伝送装置の高速信号終端部に搭載する10Gb/s多重/分離回路をSiバイポーラ技術による多重/分離ICを使用したので報告する。
- 1996-09-18
著者
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吉原 和弘
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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村上 裕美
株式会社日立製作所通信事業部
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芹沢 秀幸
(株)日立製作所情報通信事業部
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河崎 和弘
(株)日立製作所情報通信事業部
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長崎 文彦
(株)日立製作所情報通信事業部
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村上 裕美
(株)日立製作所情報通信事業部
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河崎 和弘
(株)日立製作所 戸塚工場
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