マルチアニュラーアンテナを用いた大口径均一ECRプラズマによるa-Si:H膜の堆積
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概要
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マルチアニュラーアンテナを用いて、大口径均一ECRプラズマの生成を行った。マルチアニュラーアンテナは永久磁石を同じ極を向かい合わせにして、一定の間隙をおいて同心円状に配置したもので、磁場配位はマルチリングカスプとなる。これにより円周方向の均一性が向上する。また各間隙にマグネトロンを独立に結合させて、マグネトロンの並列運転が行える。マグネトロンの並列運転により、径方向のプラズマ生成を制御可能となり、アンテナに近い位置で均一なプラズマを得ることができた。また、真空容器外壁に外部磁石を配置すると磁力線の分布が大幅に変わる。これを最適化することにより、アンテナから所望の位置に、より均一なプラズマ生成が行えた。さらに、このプラズマを用い、a-Si:H膜の堆積を行い、堆積速度の均一性を確かめた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-11-24
著者
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