透明高導電性超薄膜の作製 : in-situ重合した導電性高分子
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概要
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in-situ重合を用いた導電性高分子の製膜法は、ポリピロールやポリアニリン等のP型導電性高分子を用いた重合液に基板を浸漬することにより、簡単に超薄膜を得ることができる。得られたポリピロール超薄膜の導電率は約10〜40S/cmであった。ポリピロール超薄膜の製膜は基板の表面性質(例えば、親水性基板、疎水性基板、負に荷電した基板、正に荷電した基板)に強く依存し、基板の表面性質を部分的に変えることによって、パターニングが可能であることがわかった。
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-27
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