強い乱流媒質中の後方散乱断面積
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概要
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ランダム媒質中の散乱における基本的な現像の一つとして後方散乱強調効果が良く知られている。しかし、最近の研究により、入射波の空間相関長も後方散乱に影響することがわかった。ここでは、E波入射する場合の導体楕円柱の後方散乱断面積(BCS)を解析し、入射波の空間相関長との関係を示す。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
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